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• 支持多種失效模式的異常點(diǎn)檢測(cè)
• 異常點(diǎn)失效分析定位準(zhǔn)確
• 支持IP定制+待測(cè)器件靈活設(shè)計(jì)的軟件模式，降低設(shè)計(jì)復(fù)雜度
• 支持版圖自動(dòng)布局布線(xiàn)設(shè)計(jì)
• 支持DRC/LVS自動(dòng)驗(yàn)證，輕松實(shí)現(xiàn)全芯片的無(wú)差錯(cuò)設(shè)計(jì)
• 支持多種待測(cè)器件類(lèi)型
• 自動(dòng)版圖/測(cè)試相關(guān)設(shè)計(jì)文檔生成
• 在多個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)得到驗(yàn)證和應(yīng)用

廣立微的Dense Array技術(shù)現(xiàn)已在多工藝節(jié)點(diǎn)中廣泛使用。

某客戶(hù)為世界領(lǐng)先的集成電路設(shè)計(jì)和生產(chǎn)企業(yè)客戶(hù)（IDM）。為了加速其工藝研發(fā)，采用了公司的Dense Array技術(shù)，成功地在一片晶圓內(nèi)放入了約3千萬(wàn)個(gè)待測(cè)器件，并能在1分鐘之內(nèi)測(cè)量得到一百萬(wàn)個(gè)測(cè)量值。
對(duì)比不采用Dense Array技術(shù)的可尋址方案，需要約100片晶圓才能放入3千萬(wàn)個(gè)待測(cè)器件，測(cè)量1百萬(wàn)個(gè)測(cè)量值約需要1小時(shí)，實(shí)現(xiàn)了近100倍的器件密度和測(cè)試速度提升。
Dense Array技術(shù)幫助該客戶(hù)成功地發(fā)現(xiàn)了大量之前方案未能發(fā)現(xiàn)的失效模式（Failure Mode），助力其工藝的成功開(kāi)發(fā)，并有效縮短其開(kāi)發(fā)周期。