半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)過(guò)程會(huì)產(chǎn)生各種缺陷,所以在制程中設(shè)有多道缺陷檢測(cè)(inspection),因而獲得大量的數(shù)據(jù),包括圖片。高效精準(zhǔn)的分析及缺陷溯源對(duì)良率提升具有重要意義。
廣立微DataExp-DMS (簡(jiǎn)稱DE-DMS)是缺陷數(shù)據(jù)管理與分析的解決方案,系統(tǒng)收集檢測(cè)機(jī)臺(tái)的缺陷數(shù)據(jù)及圖片,針對(duì)這些數(shù)據(jù)進(jìn)行快速分析、分類,并結(jié)合DE-YMS 良率分析系統(tǒng)查找缺陷形成的根因。目前DE-DMS系統(tǒng)已在國(guó)內(nèi)晶圓大廠部署、驗(yàn)證,獲得客戶認(rèn)可。